VITHY®Kartrij Tersinter Serbuk Titaniumdiperbuat daripada serbuk titanium melalui pensinteran suhu tinggi. Ia tidak mempunyai sebarang penumpahan media dan tidak memperkenalkan sebarang bahan cemar kimia. Ia boleh menahan pensterilan suhu tinggi yang berulang atau penggunaan suhu tinggi yang berterusan. Kartrij penapis rod titanium boleh menahan suhu maksimum 280°C (dalam keadaan basah) dan boleh menahan perubahan tekanan atau hentaman. Ia mempunyai kekuatan keletihan yang tinggi, keserasian kimia yang sangat baik, rintangan kakisan, dan sesuai untuk menapis asid, alkali, dan pelarut organik. Bahan titanium boleh menahan asid kuat dan boleh dibersihkan dan digunakan semula. Dengan prestasi cemerlang, ia boleh digunakan untuk penapisan sedutan dan penapisan tekanan.
Kartrij tersedia dengan penutup hujung seperti M20, M30, 222 (jenis sisipan), 226 (jenis pengapit), rata, DN15 dan DN20 (benang), manakala penutup hujung khas boleh disesuaikan.
| Penilaian Pengekalan | 0.22, 0.45, 1, 3, 5, 10, 15, 20, 30, 50, 80, 100μm |
| End Cap (Bahan TA1 Titanium) | M20, M30, 222 (jenis sisipan), 226 (jenis pengapit), rata, DN15 dan DN20 (benang), lain yang boleh disesuaikan |
| Diameter | Φ14, 20, 30, 35, 40, 50, 60, 70, 75, 80 mm |
| Length | 10 - 1000 mm |
| MRintangan Suhu maksimum | 280 °C (dalam keadaan basah) |
| Siri Φ30 | Siri Φ40 | Siri Φ50 | Siri Φ60 |
| Φ30 × 30 | Φ40 × 50 | Φ50 × 100 | Φ60 × 125 |
| Φ30 × 50 | Φ40 × 100 | Φ50 × 200 | Φ60 × 254 |
| Φ30 × 100 | Φ40 × 200 | Φ50 × 250 | Φ60 × 300 |
| Φ30 × 150 | Φ40 × 300 | Φ50 × 300 | Φ60 × 500 |
| Φ30 × 200 | Φ40 × 400 | Φ50 × 500 | Φ60 × 750 |
| Φ30 × 300 | Φ40 × 500 | Φ50 × 700 | Φ60 × 1000 |
Kartrij boleh dijadikan penapis automatik dan penapis manual.
1. Penapis automatik:
2. Penapis manual:
Perumahan penapis diperbuat daripada keluli tahan karat berkualiti tinggi 304 atau 316L, dengan kedua-dua permukaan dalam dan luar digilap cermin. Ia dilengkapi dengan kartrij rod titanium tunggal atau berbilang, yang memberikannya ciri-ciri rintangan suhu tinggi, rintangan kakisan, ketepatan penapisan tinggi (sehingga 0.22 um), tidak ketoksikan, tiada penumpahan zarah, tiada penyerapan komponen ubat, tiada pencemaran larutan asal, dan hayat perkhidmatan yang panjang (biasanya 5-10 tahun) - yang kesemuanya memenuhi keperluan farmaseutikal makanan dan MP.
Tambahan pula, ia mempunyai kelebihan saiz kecil, ringan, mudah digunakan, kawasan penapisan yang besar, kadar penyumbatan yang rendah, kelajuan penapisan yang cepat, tiada pencemaran, kestabilan haba yang baik, dan kestabilan kimia yang sangat baik. Penapis mikroturasan mampu mengeluarkan sebahagian besar zarah, menjadikannya digunakan secara meluas untuk penapisan ketepatan dan pensterilan.
| TKadar Aliran heretis | Cartridge | Inlet & Paip Keluar | Connection | Rujukan Dimensi untuk Dimensi Luar | ||||||
| m3/h | Qty | Length | ODiameter luar (mm) | Metod | Specification | A | B | C | D | E |
| 0.3-0.5 | 1 | 10'' | 25 | Pemasangan pantas | Φ50.5 | 600 | 400 | 80 | 100 | 220 |
| 0.5-1 | 20'' | 25 | 800 | 650 | ||||||
| 1-1.5 | 30'' | 25 | 1050 | 900 | ||||||
| 1-1.5 | 3 | 10'' | 32 | Pemasangan pantas | Φ50.5 | 650 | 450 | 120 | 200 | 320 |
| 1.5-3 | 20'' | 32 | 900 | 700 | ||||||
| 2.5-4.5 | 30'' | 34 | 1150 | 950 | ||||||
| 1.5-2.5 | 5 | 10'' | 32 | Pemasangan pantas | Φ50.5 | 650 | 450 | 120 | 220 | 350 |
| 3-5 | 20'' | 32 | 900 | 700 | ||||||
| 4.5-7.5 | 30'' | 38 | 1150 | 950 | ||||||
| 5-7 | 7 | 10'' | 38 | Bebibir berulir pemasangan pantas | Φ50.5 G1'' DN40 | 950 | 700 | 150 | 250 | 400 |
| 6-10 | 20'' | 48 | 1200 | 950 | ||||||
| 8-14 | 30'' | 48 | 1450 | 1200 | ||||||
| 6-8 | 9 | 20'' | 48 | Bebibir berulir pemasangan pantas | Φ64 G1.5'' DN50 | 1000 | 700 | 150 | 300 | 450 |
| 8-12 | 30'' | 48 | 1250 | 950 | ||||||
| 12-15 | 40'' | 48 | 1500 | 1200 | ||||||
| 6-12 | 12 | 20'' | 48 | Bebibir berulir pemasangan pantas | Φ64 G1.5'' DN50 | 1100 | 800 | 200 | 350 | 500 |
| 12-18 | 30'' | 57 | 1350 | 1050 | ||||||
| 16-24 | 40'' | 57 | 1600 | 1300 | ||||||
| 8-15 | 15 | 20'' | 76 | Bebibir berulir | G2.5'' DN65 | 1100 | 800 | 200 | 400 | 550 |
| 18-25 | 30'' | 76 | 1350 | 1050 | ||||||
| 20-30 | 40'' | 76 | 1300 | 1300 | ||||||
| 12-21 | 21 | 20'' | 89 | Bebibir berulir | G3'' DN80 | 1150 | 800 | 200 | 450 | 600 |
| 21-31 | 30'' | 89 | 1400 | 1100 | ||||||
| 27-42 | 40'' | 89 | 1650 | 1300 | ||||||
Ia digunakan terutamanya dalam penapisan asid, alkali dan pelarut organik, dsb. dalam industri seperti farmaseutikal, makanan, bahan kimia, bioteknologi dan petrokimia.
1. Rintangan Kakisan
Logam titanium adalah logam lengai dengan rintangan kakisan yang sangat baik. Kartrij rod titanium yang diperbuat daripada logam titanium boleh digunakan untuk penapisan dalam alkali kuat dan bahan asid kuat. Ia digunakan secara meluas dalam industri kimia dan proses penapisan pengeluaran enzim pelarut organik dalam industri farmaseutikal. Kartrij titanium amat berguna dalam kes di mana pelarut organik seperti aseton, etanol, butanon, dll. digunakan. Dalam situasi sedemikian, kartrij penapis polimer seperti kartrij PE dan PP terdedah kepada pembubaran oleh pelarut organik ini. Sebaliknya, rod titanium agak stabil dalam pelarut organik dan dengan itu dapat digunakan secara meluas.
Gred rintangan kakisan penapis titanium boleh dikategorikan seperti berikut:
Kelas A: Tahan kakisan sepenuhnya dengan kadar kakisan di bawah 0.127mm/tahun. Boleh digunakan.
Kelas B: Tahan kakisan secara relatif dengan kadar kakisan antara 0.127-1.27mm/tahun. Boleh digunakan.
Kelas C: Tidak tahan kakisan dengan kadar kakisan melebihi 1.27mm/tahun. Tidak boleh digunakan.
| kategori | MNama aterial | MKepekatan aterial (%) | Tsuhu (℃) | Kadar Kakisan (mm/tahun) | Gred Ketahanan Kakisan |
| Asid tak organik | Asid hidroklorik | 5 | Suhu bilik/mendidih | 0.000/6.530 | A/C |
| 10 | Suhu bilik/mendidih | 0.175/40.870 | B/C | ||
| Asid sulfurik | 5 | Suhu bilik/mendidih | 0.000/13.01 | A/C | |
| 60 | Suhu bilik | 0.277 | B | ||
| Asid nitrik | 37 | Suhu bilik/mendidih | 0.000/<0.127 | A/A | |
| 90 (putih dan berasap) | Suhu bilik | 0.0025 | A | ||
| Asid fosforik | 10 | Suhu bilik/mendidih | 0.000/6.400 | A/C | |
| 50 | Suhu bilik | 0.097 | A | ||
| Asid campur | HCL 27.8% HNO317% | 30 | / | A | |
| HCL 27.8% HNO317% | 70 | / | B | ||
| HNO3: H2SO4=7:3 | Suhu bilik | <0.127 | A | ||
| HNO3: H2SO4=4:6 | Suhu bilik | <0.127 | A |
| kategori | MNama aterial | MKepekatan aterial (%) | Tsuhu (℃) | Kadar Kakisan (mm/tahun) | Gred Ketahanan Kakisan |
| Larutan garam | Ferrik klorida | 40 | Suhu bilik/95 | 0.000/0.002 | A/A |
| Natrium klorida | Larutan tepu pada 20 °C | Suhu bilik/mendidih | <0.127/<0.127 | A/A | |
| Ammonium klorida | 10 | Suhu bilik/mendidih | <0.127/<0.127 | A/A | |
| Magnesium klorida | 10 | Suhu bilik/mendidih | <0.127/<0.127 | A/A | |
| Tembaga sulfat | 20 | Suhu bilik/mendidih | <0.127/<0.127 | A/A | |
| Barium klorida | 20 | Suhu bilik/mendidih | <0.127/<0.127 | A/A | |
| Tembaga sulfat | CuSO4tepu, H2SO42% | 30 | <0.127 | A/A | |
| Natrium sulfat | 20 | Mendidih | <0.127 | A | |
| Natrium sulfat | Na2SO421.5% H2SO410.1% ZnSO40.80% | Mendidih | / | C | |
| Ammonium sulfat | Tepu pada 20 °C | Suhu bilik/mendidih | <0.127/<0.127 | A/A |
| kategori | MNama aterial | MKepekatan aterial (%) | Tsuhu (℃) | Kadar Kakisan (mm/tahun) | Gred Ketahanan Kakisan |
| larutan alkali | Natrium hidroksida | 20 | Suhu bilik/mendidih | <0.127/<0.127 | A/A |
| 50 | 120 | <0.127/<0.127 | A | ||
| 77 | 170 | >1.27 | C | ||
| Kalium hidroksida | 10 | Mendidih | <0.0127 | A | |
| 25 | Mendidih | 0.305 | B | ||
| 50 | 30/Mendidih | 0.000/2.743 | A/C | ||
| Ammonium hidroksida | 28 | Suhu bilik | 0.0025 | A | |
| Natrium karbonat | 20 | Suhu bilik/mendidih | <0.127/<0.127 | A/A |
| kategori | MNama aterial | MKepekatan aterial (%) | Tsuhu (℃) | Kadar Kakisan (mm/tahun) | Gred Ketahanan Kakisan |
| Asid organik | Asid asetik | 35-100 | Suhu bilik/mendidih | 0.000/0.000 | A/A |
| Asid formik | 50 | Suhu bilik/mendidih | 0.000 | A/C | |
| Asid oksalik | 5 | Suhu bilik/mendidih | <0.127/29.390 | A/C | |
| Asid laktik | 10 | Suhu bilik/mendidih | 0.000/0.033 | A/A | |
| Asid formik | 10 | Suhu bilik/mendidih | 1.27 | A/B | |
| 25 | 100 | 2.44 | C | ||
| Asid stearik | 100 | Suhu bilik/mendidih | <0.127/<0.127 | A/A |
2. High Rintangan Suhu
Penapis titanium boleh menahan suhu tinggi sehingga 300°C, yang tidak dapat ditandingi oleh kartrij penapis lain. Ciri ini digunakan secara meluas dalam persekitaran operasi suhu tinggi. Walau bagaimanapun, kartrij penapis yang diperbuat daripada bahan polimer tinggi mempunyai rintangan suhu yang lemah, biasanya tidak melebihi 50°C. Apabila suhu melebihi 50°C, membran sokongan dan penapisnya akan mengalami perubahan, mengakibatkan penyelewengan ketara dalam ketepatan penapisan. Malah kartrij penapis PTFE, apabila digunakan dalam persekitaran operasi dengan tekanan luaran 0.2 MPa dan suhu melebihi 120°C, akan berubah bentuk dan menjadi tua dari semasa ke semasa. Sebaliknya, kartrij penapis rod titanium boleh digunakan jangka panjang dalam persekitaran sedemikian, tanpa perubahan pada liang mikro atau penampilannya.
Digunakan secara meluas untuk penapisan cecair suhu tinggi dan penapisan wap (seperti dalam penapisan wap semasa proses penapaian).
3. Prestasi Mekanikal Hebat (Kekuatan Tinggi)
Kartrij penapis rod titanium mempunyai prestasi mekanikal yang hebat, menahan tekanan luaran 10 kg dan daya pemusnahan tekanan dalaman 6 kg (diuji tanpa sambungan). Oleh itu, penapis rod titanium boleh digunakan dalam proses yang melibatkan tekanan tinggi dan penapisan pantas. Kartrij penapis polimer tinggi lain mengalami perubahan dalam apertur mikroliang atau bahkan pecah apabila tertakluk kepada tekanan luar melebihi 0.5 MPa.
Aplikasi: Industri pembuatan gentian kimia, industri farmaseutikal, penapisan udara termampat, pengudaraan dalam air dalam, pengudaraan dan pembuih koagulan, dsb.
Prestasi mekanikal yang sangat baik (seperti yang ditunjukkan dalam rajah), kukuh dan ringan (graviti tentu 4.51 g/cm3).
| Model | Prestasi Mekanikal pada Suhu Bilik | |
| σb (kg/mm2) | δ10 (%) | |
| T1 | 30-50 | 23 |
| T2 | 45-60 | 20 |
4. CthKesan Penjanaan Semula sel
Kartrij penapis rod titanium mempunyai kesan penjanaan semula yang baik. Oleh kerana rintangan kakisan yang baik, rintangan suhu tinggi, dan prestasi kekuatan tinggi, terdapat dua kaedah untuk penjanaan semula: penjanaan semula fizikal dan penjanaan semula kimia.
Kaedah penjanaan semula fizikal:
(1) Pencairan balik air tulen (2) Tiupan wap (3) Pembersihan ultrasonik
Kaedah penjanaan semula kimia:
(1) Basuh beralkali (2) Basuh asid
Antara kaedah ini, kaedah penjanaan semula kimia dan pembersihan ultrasonik adalah yang terbaik, dengan penurunan kecekapan penapisan yang rendah. Jika digunakan atau dibersihkan mengikut operasi biasa, hayat perkhidmatan boleh dilanjutkan dengan banyak. Oleh kerana kesan rawatan penjanaan semula yang baik dari rod titanium, ia telah digunakan secara meluas dalam penapisan cecair likat.
| ModelIdex | T1 | T2 | T3 | T4 | T5 | T6 | T7 | T8 | T9 |
| FPenilaian pencairan (μm) | 50 | 30 | 20 | 10 | 5 | 3 | 2 | 1 | 0.45 |
| Pekali Kebolehtelapan Relatif (L/cm2.min.Pa) | 1 × 10-3 | 5 × 10-4 | 1 × 10-4 | 5 × 10-5 | 1 × 10-5 | 5 × 10-6 | 1 × 10-6 | 5 × 10-7 | 1 × 10-7 |
| Keliangan (%) | 35-45 | 35-45 | 30-45 | 35-45 | 35-45 | 35-45 | 35-45 | 35-45 | 35-45 |
| Tekanan Pecah Dalaman (MPa) | ≥0.6 | ≥0.6 | ≥1 | ≥1 | ≥1 | ≥1 | ≥1 | ≥1 | ≥1 |
| Tekanan Pecah Luaran (MPa) | ≥3.5 | ||||||||
| Tekanan Operasi Berkadar (MPa) | 0.2 | ||||||||
| FKadar rendah (m3/j, air tulen 0.2MPa) | 1.5 | 1.0 | 0.8 | 0.5 | 0.35 | 0.3 | 0.28 | 0.25 | 0.2 |
| FKadar rendah (m3/min, udara 0.2MPa) | 6 | 6 | 5 | 4 | 3.5 | 3 | 2.5 | 2 | 1.8 |
| AContoh pplication | Penapisan zarah kasar | Penapisan sedimen kasar | Penapisan sedimen halus | Penapisan pensterilan | |||||
